题目网 >继续教育 >学历类 >试题详情
问题详情

实现对CVD淀积多晶硅掺杂主要有三种工艺:扩散、离子注入、原位掺杂。由于原位掺杂比较简单,所以被广泛采用。

A、对

B、错

相关热点: 多晶硅  

未搜索到的试题可在搜索页快速提交,您可在会员中心"提交的题"快速查看答案。 收藏该题
查看答案

相关问题推荐

哪种化学气体经常用来刻蚀多晶硅?描述刻蚀多晶硅的三个步骤。

[多项选择题]以晶体硅材料为基础秤的太阳能电池包括()。
A.单晶硅太阳能电池
B.多晶硅太阳能电池
C.非晶硅太阳能电池
联系我们 用户中心
返回顶部